9月19日，有消息称英伟达（NVIDIA）将向英特尔投资50亿美元，此举迅速引发市场强烈反应，推动两家公司股价显著上扬，显示出投资者对双方战略合作前景的积极预期。受此利好消息带动，半导体产业链多只相关股票也应声上涨，包括光刻机巨头ASML以及从事刻蚀设备制造的LAMResearch和KLACorp等企业均录得涨幅。与此同时，AMD、ARM以及台积电当日股价则出现下跌。其中，AMD与ARM的下滑源于市场担忧其竞争地位可能受到英伟达与英特尔联手的影响。至于台积电，起初股价下挫是由于市场猜测英伟达或会

影响CPU能效的关键因素包括制程工艺、微架构设计、电源管理技术、专用加速器、散热方案及软件优化；随着制程逼近物理极限，漏电流、量子效应、成本飙升等问题凸显，未来能效提升将依赖异构计算、Chiplet设计、新材料、3D封装与软硬件协同优化。

根据最新报道，中芯国际（SMIC）目前正在对一台由上海初创企业宇量昇（SMEE）生产的国产深紫外线（DUV）光刻机进行测试。据悉，这台光刻机采用了先进的浸没式技术，该技术路线与全球光刻机巨头ASML的主流产品相似。知情人士进一步透露，中芯国际测试的这台设备原生支持28纳米工艺，但正尝试利用多重曝光技术来生产7纳米芯片，显示出其在先进工艺探索上的雄心。

如今，能驾驭先进半导体工艺的企业屈指可数，尤其是在5nm及以下节点，EUV光刻机已成为不可或缺的关键设备。在这一领域，荷兰ASML已稳坐唯一供应商的宝座。据荷兰财经记者MarcHijink在其新书《Focus：TheASMLWay》中披露，ASML的成功并非偶然，其背后的核心驱动力正是与台积电、三星、英特尔等全球芯片巨头的深度合作。他特别指出：“ASML绝不会研发一台没有客户需要的机器。”为了加速技术突破，ASML曾获得这三家行业领军企业的直接投资。这笔资金不仅壮大了公司规模，还被用于广泛招募人

9月10日，消息指出，Intel预计在今年年底启动18A工艺的量产，这将是该公司首个采用GAA（环绕栅极）晶体管结构的制程技术。而2025年将成为决定下一代14A工艺未来走向的关键一年。此前，IntelCEO陈立武曾表示，若到2026年仍未引入大客户，公司将可能搁置14A工艺的建厂计划，此言论一度引发外界对Intel是否继续推进先进制程的疑虑。不过，公司近期频频释放积极信号，强调获得大客户支持的可能性极高，并称14A工艺在性能和设计上具备强大竞争力。在高盛举办的媒体与技术大会上，Intel规划与

9月8日消息，EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备，同样重要的还有EUV光刻胶，现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。来自无锡政府网站的消息，9月4日2025集成电路（无锡）创新发展大会开幕。本次大会上宣布了多个重磅项目，除了算力平台外，还有2个值得关注的——无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线作为全国首个掌握MOR型光刻胶核心原材料、配方及应用技术的创新平台，其研发生产的光刻胶将对标世界一流水准。另一个则是江苏（集萃）光刻胶树脂合成中试线是全国唯一采用连续流技术制备光

2025年9月8日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）宣布主导法国人工智能初创企业MistralAI的C轮融资，此次融资总额达17亿欧元，其中ASML出资13亿欧元（约合15亿美元），一举成为该公司最大股东，并获得董事会席位。融资完成后，MistralAI的估值攀升至100亿欧元（约117亿美元），跃居欧洲估值最高的人工智能公司。作为全球先进半导体制造设备的核心供应商，ASML此次战略投资意在推动欧洲科技自主化进程，降低欧洲在人工智能领域对美国和中国技术体系的依赖。MistralAI自2023年创

9月4日消息，据媒体报道，全球每卖出7台PCB光刻设备，就有1台来自中国合肥。近日，芯碁微装正式递表港交所，而这家公司的创始人是一位年近60岁的女企业家，她用十年时间在被卡脖子的光刻领域凿出一条国产突围路。1984年，18岁的程卓进入安徽通用机械厂，一干就是14年，而这段工业领域经历也为她奠定了扎实的实业基础。1998年她毅然下海创业，先后涉足拍卖行、贸易等行业，完成了最初的资本积累。2013年的一场债务重组让程卓与光刻结缘，她参与合肥芯硕债务重组，自此进入完全陌生的光刻设备领域。当合肥芯硕重组

9月3日，美国知名投资银行高盛发布报告指出，中国在先进芯片制造领域相较西方国家仍存在约20年的技术差距。报告特别提到，中国光刻设备制造商与美国领先企业相比，技术水平至少落后两代以上。作为半导体生产流程中的关键环节，光刻技术已成为制约中国自主生产高端芯片的主要障碍。目前全球最先进的光刻机由荷兰企业ASML掌握，而由于其设备中含有大量源自美国的组件，因此受到美国出口管制政策的影响，无法向中国出售包括极紫外光（EUV）在内的高端机型。高盛分析认为，美国对中芯国际等本土晶圆厂实施的制裁，使其难以获取EU

9月2日最新消息，尽管我国在半导体芯片产业持续加大投入并奋力追赶，但与国际领先水平相比，仍存在显著差距，尤其是在核心设备领域，该产业依然是我国科技发展面临“卡脖子”问题最突出的环节之一。据全球知名投行高盛近期发布的研究报告指出，当前中国自主研发的光刻机仅能支持65nm制程芯片的制造，与行业龙头ASML的技术水平相差约20年。报告分析称，即便中芯国际已实现7nm芯片的量产，其背后大概率仍依赖ASML早前推出的DUV深紫外光刻设备，因为中国尚未掌握先进光刻机的自主生产能力，更遑论ASML已迭代两代的

8月31日消息，作为全球规模最大且技术最前沿的半导体代工企业，台积电在制程工艺上持续拉大与竞争对手的差距，但与此同时，其所承受的全球政治与供应链压力也日益加剧，逐渐深陷于复杂的国际格局博弈之中。据悉，台积电最新的2nm制程工艺预计将于2025年底正式进入量产阶段，2026年起将全面扩大产能。除了在中国台湾地区的新竹宝山与高雄工厂推进生产外，位于美国亚利桑那州的晶圆厂也计划于2028年投入2nm工艺的制造，进一步实现其全球生产布局。近期有消息指出，台积电将自2nm制程节点起，逐步淘汰来自中国大陆的

8月29日消息，台积电2nm工艺技术外泄案近日正式侦结，共有3人被提起公诉，最高可面临14年有期徒刑，案件后果极为严重。此案还牵涉到日本半导体设备大厂KEL威力科创。主犯陈某原为台积电员工，离职后加入该公司。作为全球领先的半导体设备供应商，KEL在业内具有举足轻重的地位。事件曝光后，威力科创迅速将涉事员工开除，并发布声明称，经内部调查，目前未发现任何机密信息被泄露至第三方，也未发现公司存在组织性指使该前员工获取不当资料的行为。虽然企业层面已明确划清界限，但外界普遍认为，KEL对台积电2nm制程技

8月5日消息，璞璘科技PRINANO近日宣布，已于8月1日成功向国内某特色工艺客户交付其自主研发的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻（NIL）系统——PL-SR。在PL-SR系列设备的研发过程中，璞璘科技突破了喷墨涂胶工艺中的多项关键技术难题，实现了纳米级别的压印膜厚控制，达到平均残余层厚度＜10nm、残余层波动＜2nm、压印结构深宽比＞7:1的性能指标，支持线宽小于10nm的NIL工艺应用。据公司介绍，PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备目前已完成在存储芯片、硅基（oS

据益普索（Ipsos）统计，全球用户每日平均使用手机的时间持续攀升，2024年已达到4小时/天，这一趋势直接推动了近视人口比例不断上升。预计到2025年，全球超过一半的人口将患有近视。在此背景下，护眼需求日益凸显，已成为消费者与显示产业链共同关注的核心议题。正值6月6日全国爱眼日，天马微电子（以下简称“天马”）携手包括PConline在内的60多位媒体代表与KOL，走进其位于武汉的G6产业基地，开展主题为“让视界更好看”的探厂活动。此次活动不仅让大家深入参观了全球领先的柔性OLED生产线——TM

6月27日消息，ASML技术高级副总裁JosBenschop在接受《日经亚洲》采访时透露，公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向5nm分辨率的HyperNA光刻机研发工作。目前使用的TWINSCANEXE:5000光刻系统搭载HighNA（0.55NA）光学系统，分辨率为8nm。更高的分辨率将有助于先进制程厂商减少曝光步骤，并提升光刻图案的精度。JosBenschop表示，ASML尚未为HyperNA光刻设备设定明确的发布时间，但该项目的目标是进一步

近期，波长光电在接待机构调研时透露，2024年度，公司境外业务的营业收入达到了12,750.37万元，占整体营收比例为30.66%。值得注意的是，这一部分收入的80%以上是由其全资子公司新加坡波长贡献的，客户分布于亚洲、欧洲、美洲、中东以及拉丁美洲等多个国家和地区。其中，对美贸易的收入占比不到5%，对公司整体业绩的影响有限。公司表示，会紧密关注国际经贸动态及关税政策调整，主动制定相应策略以减轻外部环境变化带来的冲击。同时，公司将借助灵活的全球布局和本地化的服务体系来适应国际贸易形势的变化。在半导