荷兰半导体设备制造商asml的高层管理人员向《路透社》透露，公司正积极规划拓展其芯片制造设备产品组合，推出多款全新设备，以抢占迅猛扩张的人工智能（ai）芯片市场。
突破EUV技术边界 进军先进封装领域
历经十余年攻坚，ASML已成为全球唯一具备极紫外光（EUV）光刻设备量产能力的厂商，为台积电（TSMC）、英特尔（Intel）等巨头供应支撑尖端AI芯片研发的核心装备。公司已累计投入数十亿美元用于EUV系统研发，第二代升级机型即将进入量产阶段，第三代前沿技术亦在紧锣密鼓推进中。
当前，ASML正加速跳出EUV单一技术框架，战略性布局先进封装设备赛道。该技术通过高精度互连与堆叠多个专用芯片，已成为AI加速器与高性能存储器实现突破性算力的关键路径。与此同时，ASML亦计划将人工智能深度融入未来业务体系及既有产品线。
更多科技职缺资讯请至科技专区：https://www.php.cn/link/d4b949cac7611fae5f8dee7eae4f6caf
聚焦十年以上技术演进 探索突破晶圆尺寸瓶颈
ASML首席技术官Marco Pieters在受访时强调：“我们的视野不止于未来五年，而是延伸至十年、甚至十五年之后——持续研判产业长期趋势，并预判封装、异构集成等关键技术的演进需求。”目前，ASML生产的EUV光刻机依靠极紫外光源，在硅晶圆上精准刻画纳米级电路图案；而公司亦正评估能否突破当前约“邮票大小”的单芯片曝光面积限制，从而缓解因物理尺寸制约带来的性能天花板问题。
今年1月，ASML宣布完成技术部门架构重组，确立工程师职能在组织决策中的核心地位。市场普遍看好其在EUV领域的绝对领导力，以及新任CEO Christophe Fouquet所引领的战略转型。目前，ASML市盈率约为40倍，显著高于英伟达（Nvidia）约22倍的水平；这家市值高达5600亿美元的企业，年内股价涨幅已逾30%。
芯片结构跃升“立体摩天楼” 封装精度成决胜关键
传统芯片设计以二维平面为主，而如今如英伟达（Nvidia）、超微（AMD）等厂商所开发的芯片，已日益趋向三维立体架构——借助纳米级互连点，垂直堆叠或横向融合多个功能芯片层。这种“摩天大楼式”设计大幅提升了复杂运算效率，有力支撑大型语言模型（LLM）及ChatGPT等AI应用的实时响应需求。
此类高度复杂的三维集成，对封装工艺的精度、良率与可靠性提出前所未有的严苛要求，也促使原本被视为低毛利后段工序的封装环节，一跃成为高附加值制造核心。台积电已采用先进封装技术量产最尖端的英伟达AI芯片；Pieters指出，越来越多先进封装技术正向前端制程靠拢，对制程控制精度的要求正变得愈发关键。
以AI驱动设备升级 研发新一代高精度扫描平台
在深入调研SK海力士（SK Hynix）等存储大厂的发展路线后，Pieters确认：面向3D堆叠芯片的制造需求，市场亟需新型专用设备支持。去年，ASML正式发布专为AI定制存储器与处理器打造的XT:260扫描平台。
Pieters进一步透露，研发团队正在同步推进多款下一代扫描设备。随着设备运行速度持续提升，工程师正利用AI算法优化设备控制软件，并强化芯片制造全流程中的缺陷识别与过程监控能力。凭借在光学系统设计、精密运动控制及硅晶圆处理等领域的深厚积累，ASML将在未来高端设备的研发与量产中构筑更显著的技术护城河。
延伸阅读：
英伟达力挺开源AI新创ReflectionAI 估值飙升逾200亿美元
