多名中国人工智能（ai）领域顶尖研究专家指出，尽管高端芯片制造设备仍面临外部管制，但凭借更强的风险承受能力与持续的技术创新动力，中国正稳步拉近与美国在科技领域的差距。未来三至五年内，不排除有中国企业跻身全球ai领军阵营。
被业界誉为「AI猛虎」的新锐企业——MiniMax 与智谱AI，本周接连登陆香港交易所，反映出在中央加快推动AI及半导体企业上市、强化本土技术替代战略的背景下，资本市场对中国AI产业的成长预期正显著增强。
去年12月出任腾讯首席AI科学家的姚顺雨表示，中国企业在3到5年内成长为全球AI头部企业的概率“非常高”，但同时也坦承，先进制程芯片制造设备仍是当前最突出的技术制约因素。
姚顺雨在北京一场AI主题论坛中指出，中国在电力保障与基础设施建设方面优势明显，真正掣肘的是高端产能，尤其是极紫外光（EUV）光刻机的获取能力，以及整体软件生态系统的完善程度。
路透社上月曾披露，中国已成功研制出一台EUV光刻机工作样机，理论上具备支撑与西方主流先进工艺相竞争的高端芯片量产能力；不过知情人士透露，该设备尚未实现稳定产出可用芯片，其全面成熟并投入商用的时间点，预计最早也要等到2030年。
多位出席论坛的产业界代表亦承认，美国在算力基础设施投资规模上仍占据绝对领先地位。阿里巴巴自研大模型Qwen技术负责人林俊阳指出，美方在计算资源总量上的积累，可能比中国高出一个甚至两个数量级。
林俊阳在清华大学主办的「AGI-Next Frontier Summit」峰会上提到，无论是OpenAI还是其他主流平台，均正大规模加码下一代AI底层技术研发；相比之下，中国AI团队可调动的资金相对有限，现有算力资源大多已被商业化产品交付任务所占用。
但他同时强调，资源约束反而倒逼中国研发人员探索更高效的创新路径，例如推进“算法—硬件协同设计”，使超大规模模型得以在更小规模、更具成本效益的硬件平台上高效运行。
刚刚完成港股IPO、募资达43.5亿港元的智谱AI创始人唐杰亦指出，越来越多中国年轻AI创业者敢于拥抱高风险、投身前沿探索。这种曾被视为硅谷专属的创业精神，正在中国加速生根发芽。
唐杰认为，若能进一步优化整体创新环境，为这些兼具技术实力与冒险勇气的人才提供更充裕的研发时间与成长空间，来自政府与国家战略层面的系统性支持，将成为关键推动力。
来源：路透社
